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使用ＣＦ↓［４］＋Ｏ↓［２］气体作为蚀刻气体，通过形成由光刻胶构成的预定形状图案的掩模层１０５，利用等离子体蚀刻，对有机类防反射膜１０４进行蚀刻，据此，与以往相比，可以对有机类防反射膜的侧壁部分蚀刻成良好状态。...
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