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文档序号:3207084
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在扫描曝光中,短行程模块以比长行程模块更大的加速度加速掩模或基底台。该短行程模块开始于其移动范围的一个极限位置处或靠近其移动范围的一个极限位置处,且在扫描期间赶上该长行程模块。该长行程模块较早开始减速,但是该短行程模块减速更快,以使该短行程...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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