光刻设备和装置制造方法制造方法及图纸

在扫描曝光中，短行程模块以比长行程模块更大的加速度加速掩模或基底台。该短行程模块开始于其移动范围的一个极限位置处或靠近其移动范围的一个极限位置处，且在扫描期间赶上该长行程模块。该长行程模块较早开始减速，但是该短行程模块减速更快，以使该短行程模块赶上该长行程模块，并终止于其移动范围的另一个极限位置处。可减少加速时间而不需要增大该长行程模块致动器作用的力，由此消耗和反作用力增加较少。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻投影设备，包括-辐射系统，其用于提供辐射的投影束；-支撑结构，其用于支撑图案形成装置，该图案形成装置根据所需的图案使投影束组成图案；-基底台，其用于保持基底；以及-投影系统，其用于将组成图案的束投射到基底的目标部分上，-定位系统，其用于定位物体，所述物体为支撑结构和基底台中的至少一种，所述定位系统具有串接的一长行程模块和一短行程模块以及一用于控制长行程模块和短行程模块以所需速度沿所需路线移动被定位的物体的控制系统。本文所用术语“图案形成装置”应被广义理解为指的是这样的装置其能被用来根据将要在基底的目标部分中制成的图案结构，将组成图案的截面赋予入射的辐射束；术语“光阀”也能在本文中使用。通常，所述的图案结构将对应于正在目标部分中制造的装置(例如集成电路或其它装置)中某个特定的功能层(参看下文)。这样的图案形成装置的例子包括-掩模。掩模的概念在光刻法中已广为人知，它包括一些掩模类型，如二元的、交变相移、衰减相移和不同的混合掩模。将这样的一个掩模放置在辐射束中会引起照射到掩模上的辐射根据掩模上的图案发生选择透射(在使用透射掩模的情况下)或反射(在使用反射掩模的情本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻投影设备，包括：－辐射系统，其用于提供辐射的投影束；－支撑结构，其用于支撑图案形成装置，该图案形成装置根据所需的图案使投影束组成图案；－基底台，其用于保持基底；－投影系统，其用于将组成图案的束投射到基 底的目标部分上；以及－定位系统，其用于定位物体，所述物体为支撑结构和基底台中的至少一种，所述定位系统具有串接的一长行程模块和一短行程模块以及一用于控制长行程模块和短行程模块以所需速度沿所需路线移动被定位的物体的控制系统；其特 征在于：通过控制所述短行程模块以对所述物体施加所需加速度和通过控制所述长...

【技术特征摘要】
EP 2003-4-9 03252247.61.一种光刻投影设备，包括-辐射系统，其用于提供辐射的投影束；-支撑结构，其用于支撑图案形成装置，该图案形成装置根据所需的图案使投影束组成图案；-基底台，其用于保持基底；-投影系统，其用于将组成图案的束投射到基底的目标部分上；以及-定位系统，其用于定位物体，所述物体为支撑结构和基底台中的至少一种，所述定位系统具有串接的一长行程模块和一短行程模块以及一用于控制长行程模块和短行程模块以所需速度沿所需路线移动被定位的物体的控制系统；其特征在于通过控制所述短行程模块以对所述物体施加所需加速度和通过控制所述长行程模块以施加较小的加速度，所述控制系统适于控制所述长短行程模块以在所述物体上施加所需加速度。2.根据权利要求1所述的设备，其中在扫描曝光期间所述控制装置适于控制所述物体以基本恒定的扫描速度移动。3.根据权利要求2所述的设备，其中所述控制装置适于控制所述短行程模块，以使在所述扫描曝光开始时或在所述扫描曝光开始之前不久所述物体达到所述恒定的扫描速度，和控制所述长行程模块，以使在该物体已达到所述扫描速度之后其受驱动端部达到所述扫描速度。4.根据权利要求2或3所述的设备，其中所述控制装置适于控制所述长短行程模块，以使所述受驱动物体在第一位置处开始一个曝光周期，在该处其在平行于所述扫描速度的方向上的速度为零，且所述短行程模块在与所述扫描速度相对的方向上其移动...

【专利技术属性】
技术研发人员：JAAT达姆斯，REML德威德特，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]