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薄膜形成装置的洗净方法制造方法及图纸
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下载薄膜形成装置的洗净方法的技术资料
文档序号:3206939
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热处理装置的洗净处理包括将反应室内加热到300℃的加热工序、和去除附着在热处理装置内部的氮化硅的洗净工序。在洗净工序中,将含有氟气和氯气及氮气的清洗气体供给加热到300℃的反应管内,去除氮化硅而洗净热处理装置的内部。...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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