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光刻投影设备包括：提供辐射投射光束的辐射源；支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用于根据所需图案使投射光束形成图案；保持基底的基底台；将带图案的光束投射到基底靶部上的投影系统；该辐射源进一步包括：调节该辐射束的照明系统，以提供调节辐射...该专利属于ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT股份公司授权不得商用。