光刻设备及装置制造方法制造方法及图纸

光刻投影设备包括：提供辐射投射光束的辐射源；支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用于根据所需图案使投射光束形成图案；保持基底的基底台；将带图案的光束投射到基底靶部上的投影系统；该辐射源进一步包括：调节该辐射束的照明系统，以提供调节辐射束，使得能够照射该图案形成装置；该照明系统限定入射面，其中该辐射束进入该照明系统；和光束传输系统，包括将该投射光束从辐射源转向和传输到该照明系统的转向元件。光刻投影设备，其特征在于，光束传输系统包括将该辐射束从与该入射面具有一定距离处的物面成像至位于该入射面处或附近的像面的成像系统。这样，可显著减少激光指向偏差对在该入射面处光束位置和指向偏差上的影响。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻投影设备，包括-用于提供辐射投射光束的辐射源；-用于支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用于根据所需的图案使投射光束形成图案；-用于保持基底的基底台；-用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投影系统；所述辐射源进一步包括-用于调节所述辐射束的照明系统，以提供一调节辐射束，使其能够照射所述图案形成装置；所述照明系统限定入射面，其中所述辐射束进入所述照明系统；和-光束传输系统，包括于将所述投射光束从辐射源转向和传输到所述照明系统的转向元件。
技术介绍
这里使用的术语“图案形成装置”应广义地解释为能够给入射的辐射束赋予带图案的截面的装置，其中所述图案与要在基底的靶部上形成的图案一致；本文中也使用术语“光阀”。一般地，所述图案与在靶部中形成的装置如集成电路或者其它装置的特殊功能层相对应(如下文)。这种图案形成装置的实例包括-掩模。掩模的概念在光刻中是公知的。它包括如二进制型、交替相移型、和衰减相移型的掩模类型，以及各种混合掩模类型。这种掩模在辐射束中的布置使入射到掩模上的辐射能够根据掩模上的图案而选择性地被透射(在透射掩模的情况下)或者被反射(在反射掩模的情况本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻投影设备，包括：－用于提供辐射投射光束的辐射源；－用于支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用于根据所需的图案使投射光束形成图案；－用于保持基底的基底台；－用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投 影系统；所述辐射源进一步包括：－用于调节所述辐射束的照明系统，以提供一调节辐射束，使其能够照射所述图案形成装置；所述照明系统限定入射面，其中所述辐射束进入所述照明系统；和－光束传输系统，包括用于将所述投射光束从辐射源 转向和传输到所述照明系统的转向元件，其特征在于，－所述光束传输系...

【技术特征摘要】
EP 2003-4-17 03076142.31.一种光刻投影设备，包括-用于提供辐射投射光束的辐射源；-用于支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用于根据所需的图案使投射光束形成图案；-用于保持基底的基底台；-用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投影系统；所述辐射源进一步包括-用于调节所述辐射束的照明系统，以提供一调节辐射束，使其能够照射所述图案形成装置；所述照明系统限定入射面，其中所述辐射束进入所述照明系统；和-光束传输系统，包括用于将所述投射光束从辐射源转向和传输到所述照明系统的转向元件，其特征在于，-所述光束传输系统包括一个成像系统，用于将所述辐射束从与所述入射面具有一定距离处的物面成像至靠近或位于所述入射面处的像面。2.根据权利要求1所述的光刻投影设备，其中所述成像系统为1X成像系统。3.根据权利要求2所述的光刻投影设备，其中所述成像系统包括一对透镜，所述一对透镜中的每个透镜的焦距为从所述物面至所述像面距离的1/4倍。4.根据前述权利要求中任一项所述的光刻投影设备，其中所述光束传输系统包含至少一个可平动反射镜，其用于在横向于光束方向的至少一个方向上平动所述投射光束。5.根据权利要求4所述的光刻投影设备，其中两个可平动反射镜被顺次定位在光束传输路径中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：AEA库伦，EWM克诺斯，M莫，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，卡尔蔡司SMT股份公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]