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一种防止旁瓣被刻蚀转移到衬底的方法技术
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文档序号:3206515
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一种防止旁瓣被刻蚀转移到衬底的方法,其特征在于在接触孔光刻后、刻蚀前增加一步烘烤,并通过调整光刻胶烘烤温度和时间来控制光刻胶流动的程度,以填平旁瓣而不影响正常孔。...
该专利属于上海华虹(集团)有限公司、上海集成电路研发中心有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华虹(集团)有限公司、上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。
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