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一种集成电路工艺制造中用的清洗溶液，其特征是：该清洗溶液由氨水、双氧水、超纯水、四甲基氢氧化胺和络合试剂ＣＤＴＡ组成，其中氨水、双氧水和超纯水的体积比为１∶（２－４）∶（２０－４０），四甲基氢氧化胺（２．３８％）含量为总重量的（０．２－０．...该专利属于上海华虹(集团)有限公司、上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹(集团)有限公司、上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。