温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明包括一种方法，该方法包括如下步骤：提供一个第一衬底；形成一个覆盖第一衬底的绝缘体；在绝缘体中形成一个开口；在开口中以及绝缘体上形成一个导体；用第一化学机械抛光工艺除掉绝缘体上的导体，以便留下在开口中的导体；以及用第二化学机械抛光工艺减...
该专利属于英特尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过英特尔公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。