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一种蚀刻氮化硅薄膜的设备及方法，此方法首先提供一磷酸槽，并且在磷酸槽的侧边装设一声波产生器。接着，将一晶圆浸入磷酸槽中，其中晶圆上已形成有一氮化硅薄膜。之后，开启声波产生器，以使晶圆上的氮化硅薄膜被蚀刻或移除。由于本发明在磷酸槽的侧边装设有...
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