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一种位元线的形成方法，包括下列步骤：　　　　提供一半导体基底，该半导体基底上形成有一晶体管，该晶体管具有一闸极及一源汲极区；　　　　于该半导体基底上形成一第一介电层，该第一介电层具有接触窗，该接触窗露出该源汲极区的表面；　　　　于该接触窗内...
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