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一种光刻装置，其中将位于投影装置（ＰＬ）之下的基底表面的局部区域浸入液体中。使用致动器（３１４）可以改变基底（Ｗ）的表面之上的液体供给装置（３１０）的高度。控制装置将前馈或回馈控制用于基底（Ｗ）的表面高度的输入，以将液体供给装置（３１０）保...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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