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一种光刻投影装置，包括：用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；用于保持基底的基底保持器，所述基底保持器配有提供夹持力的装置，用于将基底压靠在基底保持器上；用于抵抗所述夹...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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