光刻装置，器件制造方法，以及由此制造的器件制造方法及图纸

一种光刻投影装置，包括：用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；用于保持基底的基底保持器，所述基底保持器配有提供夹持力的装置，用于将基底压靠在基底保持器上；用于抵抗所述夹持力以使所述基底从所述保持器上弹出的释放装置；用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统。根据本发明专利技术，光刻投影装置包括一个控制器，用于控制所述释放装置，从而利用在最后释放之前减小的释放力使所述基底从所述保持器释放。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻投影装置，包括用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；用于保持基底的基底保持器，所述基底保持器配有提供夹持力的装置，用于将基底压靠在所述基底保持器上；用于施加抵抗所述夹持力的释放力以使所述基底从所述基底保持器上释放的释放装置；用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统。
技术介绍
这里使用的术语“构图装置”应广义地解释为能够给入射的辐射光束赋予带图案的截面的装置，其中所述图案与要在基底的目标部分上形成的图案一致；本文中也使用术语“光阀”。一般地，所述图案与在目标部分中形成的器件如集成电路或者其它器件的特殊功能层相对应(如下文)。这种构图装置的示例包括-掩模。掩模的概念在光刻中是公知的，它包括如二进制型、交替相移型、和衰减相移型的掩模类型，以及各种混合掩模类型。这种掩模在辐射光束中的布置使入射到掩模上的辐射能够根据掩模上的图案而选择性地被透射(在透射掩模的情况下)或者被反射(在反射掩模的情况下)。在使用掩模的情况下，支撑结构一般是一个掩模台，它能够保证掩模被保持在入射辐射束中的所需位本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻投影装置，包括：－用于提供辐射投影光束的辐射系统；－用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；－用于保持基底的基底保持器，所述基底保持器配有提供夹持力的装置，用于将基底压靠 在所述基底保持器上；－用于施加抵抗所述夹持力的释放力以使所述基底从所述基底保持器上释放的释放装置；－用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统；其特征在于－所述光刻投影装置包括用于施加释放力的控制器， 所述释放力在最后释放之前被减小。

【技术特征摘要】
EP 2003-5-9 03076400.51.一种光刻投影装置，包括-用于提供辐射投影光束的辐射系统；-用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；-用于保持基底的基底保持器，所述基底保持器配有提供夹持力的装置，用于将基底压靠在所述基底保持器上；-用于施加抵抗所述夹持力的释放力以使所述基底从所述基底保持器上释放的释放装置；-用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统；其特征在于-所述光刻投影装置包括用于施加释放力的控制器，所述释放力在最后释放之前被减小。2.根据权利要求1的光刻投影装置，其中对所述释放力进行控制，使最后释放时的释放力小于最大释放力的70％。3.根据权利要求2的光刻投影装置，其中相对释放装置的预置释放高度来控制所述释放力。4.根据权利要求1至3中任一项权利要求的光刻投影装置，其中选择所述释放力，以产生2mrad的最大偏转角。5.根据权利要求3或4的光刻投影装置，其中200mm基底的预定释放高度小于1.0mm，优选小于0.5mm。6.根据前面任一项权利要求的光刻投影装置，其中所述基底保持器包括用于吸收损耗能量的保护性边缘。7.根据前面任一项权利要求的光刻投影装置，其中所述基底保持器包括多个突起，其末端确定支架的一个基本上平的平面，用于支撑基本上平的基底。8.一种光刻投影装置，包括-用于提供辐射投影光束的辐射系统；-用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；-用于保持基底的基底保持器，所述基底保特器配有提供夹持力的装置，用于将基底压靠在...

【专利技术属性】
技术研发人员：KJJM扎亚，TAR范埃佩，ALHJ范米尔，JR米德马，JJ奥坦斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]