温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

依照本发明形成绝缘膜的方法，将含氮气体与由硅和氯组成的化合物反应，条件为化合物与含氮气体的气流比低于１／３０，从而生成氮化硅膜。在本发明中，在气流比低于１／３０的条件下形成氮化硅膜，从而改进了具有氮化硅膜的绝缘膜的绝缘性能，进而降低了流经该...
该专利属于尔必达存储器株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过尔必达存储器株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。