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一种光刻投影装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于根据所需图案对投射光束进行构图；包括多个突起的基底保持器，多个突起的末端限定了用于支撑基本上平坦的基底的基本上平坦的支撑平面，所述基底保持器设...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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