【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光刻投影装置，包括—用于提供投射光束的辐射系统；—用于支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于根据所需图案对投射光束进行构图；—包括多个突起的基底保持器，多个突起的末端限定了用于支撑基本上平坦的基底的基本上平坦的支撑平面，所述基底保持器设有提供压力的装置，用于使基底贴紧突起的末端；设置在基底保持器的边缘区域的突起安排成提供与按压装置的压力有关的基底的基本上平直的外伸；和—用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统。
技术介绍
这里使用的术语“构图装置”应广义地解释为能够给入射的辐射光束赋予带图案的截面的装置，其中所述图案与要在基底的靶部上形成的图案一致；本文中也使用术语“光阀”。一般地，所述图案与在靶部中形成的器件如集成电路或者其它器件的特定功能层相对应(如下文)。这种构图装置的示例包括掩模。掩模的概念在光刻中是公知的。它包括如二进制型、交替相移型、和衰减相移型的掩模类型，以及各种混合掩模类型。这种掩模在辐射光束中的布置使入射到掩模上的辐射能够根据掩模上的图案而选择性的被投影(在投影掩模的情况下)或者被反射(在反射掩模的情况下)。在使用掩模...
【技术保护点】
一种光刻投影装置，包括：－用于提供辐射投射光束的辐射系统；－用于支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于根据所需图案对投射光束进行构图；－包括多个突起的基底保持器，多个突起的末端限定了用于支撑基本上平坦的基底的基本上平 坦的支撑平面，所述基底保持器设有提供压力的装置，用于将基底压靠在突起的末端；基底保持器的边缘区域中的突起安排成提供与按压装置的压力有关的基底的基本上平坦的外伸；和－用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统，其特征在于： －所述突起在基底保持器离开边缘的区域内分布，以便为所述多个突...
【技术特征摘要】
EP 2003-5-6 03076340.31.一种光刻投影装置，包括—用于提供辐射投射光束的辐射系统；—用于支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于根据所需图案对投射光束进行构图；—包括多个突起的基底保持器，多个突起的末端限定了用于支撑基本上平坦的基底的基本上平坦的支撑平面，所述基底保持器设有提供压力的装置，用于将基底压靠在突起的末端；基底保持器的边缘区域中的突起安排成提供与按压装置的压力有关的基底的基本上平坦的外伸；和—用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统，其特征在于—所述突起在基底保持器离开边缘的区域内分布，以便为所述多个突起的每个突起提供基本相等的支撑区域，所述支撑区域由与突起相关联的Voronoi图分布限定。2.根据权利要求1的光刻装置，其中，基底保持器为基本上是圆形的结构，用于支撑基本上是圆形的基底，并且，其中所述多个突起设置在远离所述圆形基底保持器的中心区域的基本上为同心圆的一个区域内；其中，至少一些同心圆为不等距的。3.根据权利要求2的光刻装置，其中，突起分布在基本上等边的三角形图案中。4.根据权利要求1～3中任何一项的光刻装置，其中，根据中央突起并且围绕设置为正六边形的第一排突起设置中心突起。5.根据权利要求4的光刻装置，其中，设置第二排突起，使其具有围绕第一排突起基本上对称地定向的12个突起。6.根据权利要求2～5中任何一项的光刻装置，其中，基底保持器包括多个数量为N的开口，每个所述开口限定了一个第二边缘区域，其中，穿过所述N个第二边缘区域的每个同心圆包括整数N个突起。7.根据权利要求6的光刻装置，其中，所述多个数量为N的开口设置为三个对称设置的开口组的N/3倍。8.根据前面任何一项权利要求的光刻装置，其中，基底保持器包括多个数量为M的凹口，每个所述凹口限定一个第三边缘区，其中，每个穿过所述M个第三边缘区的同心...
【专利技术属性】
技术研发人员：KJJM扎亚，TAR范埃佩，JJ奥坦斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]
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