专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
东京毅力科创株式会社
>
等离子体处理装置制造方法及图纸
>技术资料下载
下载等离子体处理装置的技术资料
文档序号:3206009
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
磁场形成机构21的各个磁体块22,如图3(a)所示,从各个磁体块22的磁极朝向真空室1侧的状态开始,如图3(b)、图3(c)所示,相邻的磁体块22同步反向转动,所以相隔一个的磁体块22就变成同向转动,可以控制在真空室1内形成的半导体晶圆片W...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。