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本发明提供一种使用化学－机械抛光系统抛光具有金属层的基片的方法。化学－机械抛光系统包含研磨剂及／或抛光垫、稀土盐、比稀土盐更强的氧化剂以及液态载体。...
该专利属于卡伯特微电子公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡伯特微电子公司授权不得商用。

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