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一种使半导体沉积层平整的方法，至少包括下述步骤：　　　　提供一基材；　　　　用高密度等离子化学气相沉积法（ｈｉｇｈ　　ｄｅｎｓｉｔｙ　　ｐｌａｓｍａ　　ｃｈｅｍｉｃａｌ　　ｖａｐｏｒ　　ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，ＨＤＰ　　ＣＶＤ）在上述基材上形...
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