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一种接触孔洞的光学邻近效应的修正方法，其特征包括：　　　　提供一测试光掩模，其上设置至少一间距和至少一光掩模关键尺寸的组合的多个第一孔洞图案；　　　　以该测试光掩模对一测试光阻层进行曝光显影，以于该测试光阻层中形成对应于该些第一孔洞图案的多...
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