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一种控制深沟道顶部尺寸的方法，其特征是包括下列步骤：　　　　提供一包括一沟道的基板且该沟道中具有一第一导电层部分填入该沟道；　　　　形成一第一导电层填入部分该沟道；　　　　形成一非晶硅层覆盖该沟道侧壁与该导电层，其中该非晶硅层于沟道顶部具有...
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