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SOI基板的加工方法技术
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文档序号:3205597
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由半导体基板形成的背面层、在该背面层的上面叠层的绝缘层、在该绝缘层的上面叠层半导体薄膜层、在该半导体薄膜层的表面上形成的回路构成的SOI基板的加工方法中,包括:磨削该背面层、残留规定的厚度的磨削工序,以及将利用该磨削工序形成规定厚度的该背面...
该专利属于株式会社迪斯科所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社迪斯科授权不得商用。
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