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一种光刻投射装置，包括以二维阵列方式产生多个源象的微透镜阵列，具有多个对源象起光阀作用的可寻址元件的可编程构图装置，和用于将源象阵列投射到基底上的投射子系统。由此获得更大的工作距离。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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