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本发明涉及一种光刻投影装置（１）。该投影装置包括用于支撑构图装置例如中间掩模版的支撑结构。当通过投影光束ＰＢ照射中间掩模版时，利用中间掩模版上的图案对投影光束进行构图。投影系统ＰＬ构成和设置为使中间掩模版的受照射部分成像到基底的目标部分上。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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