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根据本发明的半导体存储器件包括：经由埋置的绝缘层形成在衬底上的第一半导体层；浮置本体单元，具有形成在所述第一半导体层上的浮置型的沟道本体、在所述沟道本体的第一面形成沟道的主栅极、以及在所述第一面的相对面处电容性耦合在第二面上形成的辅助栅极；...
该专利属于株式会社东芝所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社东芝授权不得商用。

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