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一种光刻装置，它包括：　　　　－照明系统，构造成调整辐射光束；　　　　－支承结构，构造成支承构图装置，该构图装置能够把图案赋予辐射光束的横截面，以形成图案化的辐射光束；　　　　－基底台，构造成保持基底；　　　　－投影系统，构造成将图案化的辐...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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