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一种等离子体处理装置及其处理方法制造方法及图纸
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文档序号:3204825
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本发明的等离子体处理装置具有:带电介质壁的处理室;和设在所述处理室内,具有载置被处理体的载置面的载置台。经所述电介质壁,在所述处理室内激起感应等离子体。设有可装卸自由地覆盖所述载置台的至少载置面的电介质部件。...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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