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一种包括照射系统的光刻装置，所述照射系统提供辐射的投射光束，所述光束包括具有第一波长的第一辐射分量和具有第二波长的第二辐射分量，用以再现掩模上形成的特征。根据本发明的光刻装置包括具有可调节滤波装置的照射系统，该装置用于过滤所述辐射光束，在使...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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