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文档序号:3204507
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本发明的课题是,抑制SRAM单元的形成面积的增大并谋求工作的稳定。在SRAM单元的存取MOS晶体管Q5的栅电极33上,形成与字线连接的接触45。接触45穿通元件隔离绝缘膜14,抵达SOI层13。驱动MOS晶体管Q1的体区与第1存取MOS晶体...
该专利属于株式会社瑞萨科技所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社瑞萨科技授权不得商用。
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