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一种缺陷管理系统的方法，其特征在于，该方法包含：　　　　进行机台匹配检验于一缺陷管理系统中，该进行步骤至少包含扫描一生产晶片；　　　　检视一使用层级于该缺陷管理系统中，该缺陷管理系统根据该使用层级，分配该缺陷管理系统的资源；　　　　编辑一分...
该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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