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使用反光学邻近效应形成光阻图案的方法技术
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下载使用反光学邻近效应形成光阻图案的方法的技术资料
文档序号:3204019
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一种提供用以形成一个半导体组件的方法,包含提供一个基底具有一层光阻层形成于其上,再在至少一部分的光阻层上提供一个光罩,此光罩具有一个主图案以及一个辅助图案。这个方法更包含转移主图案到光阻层,以及在基底上形成一个图案,如此一来可缩减因光学邻近...
该专利属于旺宏电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过旺宏电子股份有限公司授权不得商用。
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