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一种超纯水中氢氧自由基清洗晶圆表面的方法，用于半导体制程中闸极氧化层或穿隧氧化层生成之前的清洗制程，该方法包括下列步骤：　　　　以第一液体去除在该晶圆表面的有机物及光阻；　　　　使用超纯水快速浸泡该晶圆；　　　　使用超纯水冲洗该晶圆；　　　...
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