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本发明所要解决的问题是使掩膜层的各图案宽度一致，且将由掩膜层作掩膜的被蚀刻层蚀刻为预定的图案宽度。在第一工序中，设定处理条件使图案形成后的掩膜层（２１２）的侧壁堆积反应生成物，变宽各图案宽度，且使初始状态（ａ）中图案宽度不同的属于第一区域（...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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