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在用于光刻装置的反射镜上预定金属顶层（８）的应用，用于光刻装置的反射镜，以及具有这样反射镜或者设置了具有这样应用的顶层的反射镜的光刻装置。该装置具有提供所需波长例如ＥＵＶ辐射的源（ＳＯ）。该源（ＳＯ）产生不希望有的金属颗粒流，它们在反射镜上...
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