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在使用１５７毫微米辐射的光刻装置中，在已经使用了低流量净化模式之后，在低强度下激发投影光束，并监测衬底表面处的强度。当衬底表面处的强度表示光束路径上的传输回到正常水平时，就确定可以安全地重新开始曝光。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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