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一种应用于微影制程的结构，其特征在于其包括：　　　　一基底，该基底上已形成有至少一膜层；　　　　一光线阻隔层，配置于该基底上，并覆盖该些膜层；　　　　一抗反射层，配置于该光线阻隔层上；以及　　　　一光阻层，配置于该抗反射层上。...
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