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一种浸润式光刻系统１００与方法，其中浸润之媒介１１２与近接端１１０之透镜接合，此近接端１１０之透镜聚焦图案化光束于光敏材料１１６上，且保护膜３００覆盖在光敏材料１１６上，而此保护膜３００与浸润之媒介１１２接合。...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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