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一种光刻装置，其包括用于将辐射光束投射到基底上的照射系统。该光刻装置还包括用于支撑基底和构图部件中的至少一个的吸盘组件，该构图部件用于将图案赋予给辐射光束的截面。一传热系统可在第一表面和第二表面之间操作。该传热系统能够在第一表面和第二表面之...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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