专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
株式会社瑞萨科技
>
非易失半导体存储器件的制造方法技术
>技术资料下载
下载非易失半导体存储器件的制造方法的技术资料
文档序号:3201515
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
制造一种AND快闪存储器,其中存储单元由半导体衬底的p型阱中形成的n型半导体区(源极和漏极)以及三个栅极(包括浮动栅极、控制栅极以及选择栅极)构成。在制造中,砷(As)引入到选择栅极的其中一个侧壁附近的p型阱内以形成n型半导体区(源极和漏极...
该专利属于株式会社瑞萨科技所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社瑞萨科技授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。