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一种光刻设备，包括提供辐射的投射光束（ＰＢ）的照明系统（ＩＬ）、支持构图装置（ＭＡ）的支撑结构（ＭＴ），该构图装置（ＭＡ）用于使投射光束（ＰＢ）在其横截面上构成图案。所述设备进一步包括支持衬底（Ｗ）的衬底台（ＷＴ）、将受到构图的光束投射到衬...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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