下载半导体器件及电容器的形成方法的技术资料

文档序号:32012104

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本申请实施例提供一种半导体器件及电容器的形成方法,其中,半导体器件至少包括:衬底和电容器;所述电容器包括:依次平行于所述衬底设置的底部支撑层、中间支撑层和顶部支撑层;第一电极层,垂直于所述衬底设置,且贯穿所述底部支撑层、中间支撑层和顶部支撑...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。