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提供一种掩模基板的平整度模拟系统，可以解决在将掩模基板吸附到晶片曝光装置的掩模台后掩模基板的平整度恶化而引起晶片曝光装置制品成品率低的问题。该掩模基板的平整度模拟系统包括：取得有关掩模基板的主面的平整性的第一信息的测定基板的平整性的单元；以...
该专利属于株式会社东芝所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社东芝授权不得商用。

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