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MOS栅器件制造方法技术
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文档序号:3201065
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提供了用于MOS栅器件的表面几何结构,它允许通过预定增量使器件的尺寸在x轴和y轴发生改变。实际器件尺寸通过金属和焊盘掩模或接触金属和焊盘掩模来设置或“编程”。这种方法既节省时间又节约费用。示出了一个7×9阵列(11)的相同贴片(13)。...
该专利属于通用半导体公司所有,仅供学习研究参考,未经过通用半导体公司授权不得商用。
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