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半导体存储装置及其制造方法制造方法及图纸
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文档序号:3201015
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在将半导体衬底表面的反型层作为数据线利用的非易失性半导体存储装置中,可兼顾存储单元间特性离散的降低和位成本的降低。在p型阱3内经氧化硅膜4以被埋入的形态形成多个辅助电极A(An、An+1),在硅衬底表面1a上形成的氧化硅膜(隧道绝缘膜)5的...
该专利属于株式会社瑞萨科技所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社瑞萨科技授权不得商用。
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