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基板处理装置制造方法及图纸
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文档序号:3200965
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形成单一正向路径(第一基板输送路径),用于在正向输送基板以将基板输送到曝光装置上。形成分开的基板输送路径(第二基板输送路径),专用于后曝光烘烤(PEB)。沿着每条路径进行基板输送,而与沿着另一条的基板输送无关。将第四主输送机构插入输送点之间...
该专利属于日本网目版制造株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日本网目版制造株式会社授权不得商用。
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