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提供了一种用于等离子体处理室的部件。提供了一种含金属部件主体。密封剂涂层位于含金属部件主体的表面上，其中密封剂涂层包括硅酮密封剂、有机密封剂或环氧密封剂中的至少一种，其中密封剂涂层未被覆盖且直接暴露于等离子体处理室中的等离子体。子体处理室中...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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