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本实用新型提供了一种晶圆气相沉积设备。晶圆气相沉积设备包括：反应室；基座，基座设置在反应室内，以用于承载晶圆；喷气结构，包括排气部，排气部设置在反应室内且位于基座的上方，以用于向晶圆喷射气体；其中，排气部具有第一子排气部和多个第二子排气部，...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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