下载半导体结构及其形成方法的技术资料

文档序号:31994261

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本发明实施例提供一种半导体结构及其形成方法,半导体结构的形成方法包括:提供晶圆,所述晶圆具有正面和背面,所述晶圆内具有导电插塞,所述导电插塞自所述正面向所述背面延伸,且所述导电插塞底面位于所述晶圆内;对所述晶圆背面进行刻蚀工艺,形成至少暴露...
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