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本发明涉及一种光刻装置，包括：构造成可调节辐射光束的照明系统；构造成可支撑图案形成装置的支撑物，该图案形成装置能够对辐射光束的横截面施加图案以形成图案化的辐射光束；构造成可固定衬底的衬底台；以及投影系统，其构造成可将图案化的辐射光束投射到衬...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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